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          熱解氮化硼化學氣相生長爐
          熱解氮化硼化學氣相生長爐
          產品描述:
          主要用于半導體領域氮化硼的化學氣相涂層或生長。
          應用范圍:
          OLED坩堝、PBN板材/環舟、VGF坩堝、LEC坩堝等。產品純度≥99.999%/99.9999%。

          熱解氮化硼化學氣相生長爐技術特征

          采用先進的進控制技術,能精密控制BCl3/NH3的流量和壓力,爐膛內沉積氣流穩定,壓力波動小;

          多通道工藝氣路,配合旋轉料臺,無沉積死角;

          多級尾氣處理系統,能高效處理腐蝕性尾氣、固體副產物,環境友好;

          可選配最新設計的防腐蝕真空機組,持續工作時間長,維修率低;

          適于工藝氣氛:真空/H2/N2/Ar/BCl3/NH3


          熱解氮化硼化學氣相生長爐產品規格

          參數\型號VCVD-0305-BNVCVD-0608-BNVCVD-0612-BNVCVD-0812-BNVCVD-1015-BNVCVD-1218-BNVCVD-1315-BNVCVD-1520-BN
          工作區尺寸 φ×H(mm)300×500600×800600×1200800×12001000×15001200×18001300×15001500×2000
          最高溫度(℃)2000
          溫度均勻性(℃)±5~±20
          極限真空度(Pa)1-100
          壓升率(Pa/h)0.67

          以上參數可根據工藝要求進行調整,不作為驗收依據,具體以技術方案和協議為準。

          熱解氮化硼化學氣相生長爐配置選擇

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